第7回シリコン材料の科学と技術フォーラム2014

 

 

シリコン材料の科学と技術に関する(1)産学連携の強化と実質化、(2)次世代を担う若手技術者・研究者の育成、(3)技術者・研究者の国際レベルでの交流を主な目標に掲げて、学術論文の発表と討論を行います。内容は、シリコン材料を中心とする半導体材料の格子欠陥および不純物制御に必要な材料科学の基礎的な内容を中心に討論し、LSI、センサー、太陽電池、パワーデバイス、Siフォトニクスなど幅広いデバイス応用面に関する最新の技術動向を見極め広く俯瞰できるようにプログラムを設定いたします。特に、半世紀以上に亘って培われてきた半導体材料に共通する結晶育成、欠陥制御、評価技術の基礎を世界的に活躍されているリーダー格の研究者から直接講演していただき、次世代に伝承してゆきたいと考えています。


 



2014/12/16  フォーラム中に撮影した写真です。こちらからご覧いただけます。

2014/12/16  http://www.sist.ac.jp/~yoshida/topics/SiForumPhoto/index.html

2014/12/16 [訂正とお詫び]

2014/12/16 プロシーディングスAcknowledgments(ページⅳ、ⅴ)の社名表記に誤りがありました。

2014/12/16 大変申し訳ありませんでした。こちらを印刷して差し替えをお願いいたします。

2014/09/30 参加登録締切、宿泊予約締切を10/8(水)に変更しました。
2014/09/30 Additional information for poster presentation 更新
2014/09/30 Program of Poster Session 更新
2014/09/10 Presentation Guidelines 詳細決定

2014/08/25 ポスター発表申込み締切、プロシーディングス原稿締切を9/16(火)に変更します。

2014/08/25 ※17日以降の提出についてはお受けできません。

2014/08/25 参加登録締切:           10/1(水)
2014/08/25 宿泊予約締切:           10/1(水)
2014/08/25 参加登録料支払締切:10/8(水)

2014/08/01 エクスカーション内容詳細決定しました。

2014/07/28 協賛企業様用展示ブース残り数:0 多数お申込み頂き誠にありがとうございました。

2014/07/03 協賛企業様用展示ブース残り数(7月3日現在):5

2014/05/29 協賛企業様用展示ブース残り数(5月29日現在):9

2014/04/15 Topics 更新

2014/04/15 プログラム 公開

2014/04/15 参加登録・演題投稿・宿泊受付開始

2014/02/20 Invited Speakers 更新

2013/08/01  ホームページ公開

 

 

 

Topics Nr. subjects
T1 Diffusion & Defects in Si materials
T2 Defects & Impurities
T3 Power devices and related materials
T4 Si Crystal Growth
T5 Si Wafer and Devices
T6 Evaluation techniques
T7 Photonics
T8 Recent topics from Hamamatsu
T9 Solar cells / crystal growth
T10 Si technology for future
Organaizing Committee of the 7th Forum on the Science and Technology of Silicon Materials 2014 (Hamamatsu)